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光刻工艺中的MEF是什么?是如何影响光刻的?
参考文章来源:Jeff的芯片世界原文作者:Jeff的芯片世界在光刻工艺窗口的评价参数中,除了能量宽裕度和对焦深度之外,还有一个衡量掩膜版图形转移到硅片上保真程度的参数——掩膜版误差因子(mask error factor,MEF)。
光芯片,火力全开
近几十年以来,微电子技术与电子芯片产业遵循着摩尔定律不断发展,随着传统制程工艺逼近极限,电子芯片在进一步提升计算速度和降低功耗方面的技术突破,面临难以解决的瓶颈。
年产能130万片,尼卡光学如何让AR眼镜"平民化"成为可能?
中国企业在微纳光学领域已经具备了"弯道超车"的能力。作者|小鼻嘎编辑|山子6月13日上午,天津滨海高新区华苑产业区1500平方米的千级洁净车间外,尼卡光学CEO杜有成和天津滨海高新区管委会副主任刘宪明等领导共同点亮产线,宣布全球首条百万片级体全息光波导自动化产线正式投产。
光芯片,即将起飞!
例如,据估算,训练GPT-3大约消耗了1300兆瓦时的电力,预测显示未来模型可能需要城市级的电力预算。
硬核:激光结构光的原理、设计和类型详解
论文以“Structured Light from Lasers”为题发表在“Laser & Photonics Reviews”杂志上。
科研速递|冬眠中的记忆、量子相干显微镜与声驱微型飞行器
这项工作由哈佛大学物理系 Markus Greiner 课题组与印第安纳大学物理系 Ceren B. Dag 合作完成。
光结解码器验了,中国量子通信网将提速升级
光结是啥光学扭结,就是让光束的相位奇点链接缠绕,打出数学上的结。实验室里已经能稳定生成三叶结、五叶结和霍普夫链。这类拓扑光场把信息编进三维缠绕里,一个脉冲塞入高维信息,天生抗噪。为啥难认光结不按正交规矩出牌。轨道角动量模式像标准螺帽,有解析设计的分离器。