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硬核：激光结构光的原理、设计和类型详解
论文以“Structured Light from Lasers”为题发表在“Laser & Photonics Reviews”杂志上。
光刻工艺中的MEF是什么？是如何影响光刻的？
参考文章来源：Jeff的芯片世界原文作者：Jeff的芯片世界在光刻工艺窗口的评价参数中，除了能量宽裕度和对焦深度之外，还有一个衡量掩膜版图形转移到硅片上保真程度的参数——掩膜版误差因子（mask error factor，MEF）。
半导体行业术语缩写词典总结-A（第二轮）
作为半导体行业新人来说，最痛苦的莫过于各种缩写词术语了，有的缩写词一样但是会有不同的解释。这里作者给大家整理了部分术语词典，后面会按照更新顺序一一分享出来。
光刻机的工作原理及关键技术
来源：传感器技术光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。
光芯片，即将起飞！
例如，据估算，训练GPT-3大约消耗了1300兆瓦时的电力，预测显示未来模型可能需要城市级的电力预算。